Plasma acoplado inductivamente

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asiento: Jiangsu
Validez a: Long-term effective
última actualización: 2017-12-14 20:50
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Detalles del producto

ICP2060T - espectrómetro de emisión de Plasma acoplado inductivamente
ICP 2060T inductivamente acoplado Plasma emisión Espectrómetro secuencial está diseñado para medir mayor, menor y elementos traza en muestras diferentes, con un rendimiento excepcional.


Características de Plasma acoplado inductivamente
Pueden medir más de 70 elementos
Análisis rápido, 5-8 elementos por minuto;
Límites de detección excelente, a nivel de ppb para la mayoría de los elementos
Rango dinámico lineal amplio, llegando a 6 órdenes de magnitud, de ppb a porcentaje;
Menor consumo de gas; Cada cilindro de gas argón se puede utilizar durante 8 horas;
Avanzado diseño óptico con una reja olográfica totalmente iluminada, con corrección de interferencias espectrales y un alto rendimiento ligero para límites de detección mejorados
Amplia longitud de onda
190nm a 500nm con 3600 línea reja
190nm a 800nm con 2400 línea reja
Controlado por ordenador plasma plataforma optimiza la posición de visualización para reducir interferencias, mejorar la SNR y minimizar
emisiones del fondo
Flujo del software de control de gas portador, gas plasma y gas auxiliar proporcionan monitor en tiempo real así como gran estabilidad del flujo.
Varios tipos de antorchas, nebulizador y cámara de nebulización son opcionales.
Elección del muestreador automático mejora grandemente eficacia
Residuos de la muestra por bomba peristáltica aseguran caudal muestra estable; Modo bomba rápida mejora la productividad
El nuevo generador de 27.12 MHz RF-funcionamiento, robusto que ofrece un rendimiento sin igual
Acoplamiento automático rápido y preciso sistema asegura a la transferencia de energía máxima eficiencia y estabilidad
Ignición de plasma de un solo botón
Por simplemente tecleo el botón de "inflamar" en software, el plasma puede ser encendido inmediatamente
La función "ver diagnóstico" proporciona información sobre el progreso de estado y análisis de instrumentos (como la figura 3)
Análisis de varios elementos
Después de seleccionar los elementos y establecer parámetros de medición, instrumento medirá automáticamente con resultados mostrados directamente. (como la figura 4)
Gestión de base de datos mejorada
La base de datos contiene miles de línea espectral, donde los usuarios pueden elegir libremente basado en el método de aplicación. (según figura 5)
Fuerte y fácil de usar Software
El software profesional de proporcionar excelentes características y multi acceso a funciones como sigue:
Gestión de datos, cuantitativo y análisis cualitativo, prueba de ajuste del parámetro, un botón generación de informes, corrección de fondo e interferencias, modo de calibración rápida, indicación del estado del instrumento y en línea auto diagnóstico.


Especificaciones de Plasma acoplado inductivamente
Tamaño: 1,5 m × 0.8 m × 0.8 m
Potencia de estado sólido
Frecuencia: 27.12MHz
Estabilidad de frecuencia:
Método de los pares: combate de autos
Potencia de salida: 800W ~ 1600W, continuamente ajustable con más del 65% de eficiencia de energía
Estabilidad de potencia de salida: ≤0. 05%
Bobina de inducción: ID 25 mm × 3, equipado con tres tubos concéntricos de cuarzo antorcha ED 35mm (ID: diámetro interno; ED: diámetro externo)
Cámara: cámara de nebulización de doble paso de Scott
Monocromador
Tipo de óptica: turner Czery
Distancia focal: 1000mm
Especificación de la rejilla: enorme reja olográfica y 3600L/mil o 2400 L/mil 80 mm × 100 m m del área de gobierno de
Resolución: ≤0.015nm (3600 línea reja), ≤0.030nm (2400 línea reja)
Gama de longitud de onda: 195 ~ 500 nm para reja, 3600 línea 195 ~ 800 nm para 2400 línea reja.
Circuito de Control electrónico de Measurementand
Especificación del tubo fotomultiplicador: R212/R928
Negativo alto voltaje: (-50 ~ -1000) V
Circuito de rango de medición: (10-12 ~ 10-4) A
Adquisición de la señal: conversión de VF


Especificaciones técnicas de Plasma acoplado inductivamente
1) gama de contenido de muestra adecuada:
a. muestra líquida: 0,01 ppm ~ miles ppm
b. sólido o polvo muestra: 0.001% ~ 70%
2) repetibilidad: estabilidad a corto plazo, RSD≤1.5%
Estabilidad a largo plazo 3): RSD≤2%
Velocidad de prueba 4): 5 ~ 8 elementos/min
5) límites de detección (LOD, μg/L) para los elementos típicos: 1 ppb ~ 10 ppb

Elemento

La

CE

PR

ND

SM

Unión Europea

GD

TB

Λ (nm)

408.672

413.765

414.311

401.225

360.946

381.967

342.247

350.917

LOD


Elemento

DY

Ho

ER

TM

YB

Lu

Y

SC

Λ (nm)

353.170

345.600

337.271

313.126

369.419

261.541

371.030

335.373

LOD


Elemento

TA

NB

MN

Mg

B

Zn

Co

Si

Λ (nm)

226.230

313.340

257.610

279.553

249.773

13.856

228.616

251.611

LOD


Elemento

Ni

CD

Fe

CA

Mo

V

Ser

Ti

Λ (nm)

232.003

226.502

239.562

393.366

281.615

310.230

313.041

334.941

LOD


Elemento

Cu

CR

Al

ZR

AG

Sr

Au

Pinta

Λ (nm)

324.754

267.716

396.152

343.823

328.068

407.771

242.795

265.945

LOD


Elemento

PD

Ir

RH

RU

BA

Λ (nm)

340.458

224.268

343.489

240.272

455.403

LOD


Elemento

Como

SB

BI

HG

PB

GA

Se

Λ (nm)

228.812

206.833

223.061

253.652

220.353

294.364

203.985

LOD

≤15

≤15

≤10

≤15

≤15

≤10

≤10


Elemento

SN

Te

TA

TH

TL

Re

GE

Λ (nm)

242.949

214.281

226.230

283.730

276.787

227.525

209.426

LOD

≤20

≤10

≤5.0

≤10

≤30

≤5

≤15


Elemento

Os

W

Se

Li

Na

K

Λ (nm)

225.585

207.911

203.985

670.784

588.995

766.490

LOD

≤1

≤10

≤30

≤3

≤20

≤60


Campos de aplicación de Plasma inductivamente acoplado
Metal de tierras raras
Materiales de silicio, materiales magnéticos, industria de transformación
Industria metalúrgica: Análisis de elementos de impureza que influyen en la calidad de los materiales del metal
Control de calidad de agua:
Geología, minerales
Petroquímica: mediciones de más de 30 elementos en crudo
Farmacia, higiene, agricultura, protección del medio ambiente, materias primas y la industria alimentaria


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